超純水機中二氧化矽的存在形式及去除方法


點選次數☁│↟↟·:831更新時間☁│↟↟·:2021-08-21

超純水機中二氧化矽的存在形式及去除方法

  1☁₪✘、水中矽的總量主要包括活性矽和膠體矽•│╃╃。活性矽是可溶矽↟₪▩☁╃,因為它是弱離子化的↟₪▩☁╃,不會聚合成長鏈↟₪▩☁╃,而活性矽是超純水處理系統中的理想形態↟₪▩☁╃,因為它容易去除↟₪▩☁╃,去除率高↟₪▩☁╃,一般TDS中都含有活性矽;以鹽的形式存在於系統中;膠體矽通常以聚合物的形式存在•│╃╃。RO系統雖然有一定的去除率↟₪▩☁╃,但可能會造成RO前段堵塞和膠體汙染•│╃╃。膠體矽的最小直徑可以小到0.008um↟₪▩☁╃,但只有大於0.45um才能用SDI測量•│╃╃。

  2☁₪✘、二氧化矽是某種形式的陰離子↟₪▩☁╃,但其化學成分複雜↟₪▩☁╃,甚至不可預測•│╃╃。這裡好像TOC含量只能代表有機質含量↟₪▩☁╃,不能代表表層有機質組成•│╃╃。矽濃度也是如此
        3☁₪✘、矽濃度的去除率與PH值有很大關係↟₪▩☁╃,隨著PH值的增加↟₪▩☁╃,去除率增加↟₪▩☁╃,因為活性矽以鹽的形式存在↟₪▩☁╃,而不是酸•│╃╃。
 


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